DMP双面机械抛光清洗机


所属分类:

湿法制程设备

  • 产品描述
  • 适用工件:
    (Applicable parts)
    6"*1花篮,8"*1 pc花篮
    6"*1 Cassette,8"*1 pc Cassette
    批量产能:
    (Capacity)
    1 batch/10min
    工艺流程:
    (Procedure flow)
    上料(手动)→QDR槽→OF槽→超声药液槽→超声药液槽→QDR槽 →下料(手动)
    Load(Manual)→QDR Tank→OF Tank→Ultrasonic Cleaning Agent Tank→Ultrasonic Cleaning Agent Tank→QDR Tank→Unload (Manual)
    主要材料:
    (Major material)
    金属骨架SUS304+PP乳白板,槽体采用PPN/SUS316
    (Metal frame SUS 304+Ice-cream PP board,Tank uses PPN/SUS316)
    运送方式:
    (Transportation)
    手动传送
    (Manual)
    节拍时间:
    (Step time)
    依工艺可调
    (Based on process,Adjustable)
    工艺效果:
    (Process effect)
    清除晶圆片表面的残余抛光液和大颗粒(Removal residual slurry and larger particle on the surface of wafer)
    其他说明:
    (Others)
    设备可以根据客户要求定制手动/半自动
    (Customized:Semiautomatic or manual)

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